في الآونة الأخيرة، ومعهد الالكترونيات الدقيقة، والأكاديمية الصينية للعلوم R & D IC العملية الرائدة على أساس نشر منصة الضوئيات السيليكون وMEMS منصة تكنولوجيا 8 بوصة خط عملية CMOS، بدءا للشركات المحلية والأجنبية لتطوير الخدمات التقنية، بمناسبة مجال الضوئيات السيليكون وMEMS في زيادة كبيرة في قدرات البحث والتطوير، وسوف يعزز إلى حد كبير الشركات والمؤسسات البحثية لتطوير التقدم في هذه المجالات.

تم تطوير تكنولوجيا السيليكون الضوئيات في عصر الالكترونيات الدقيقة والالكترونيات البصرية هوى من moer التقارب بين التكنولوجيا الجديدة، والذي يستخدم تكنولوجيا متطورة CMOS ومنصة وتطوير وإنتاج الأجهزة البصرية الالكترونية ورقائق استنادا إلى المواد القائمة على السيليكون. ليس فقط كان هناك عاجلة تطبيقات السيليكون الضوئية في الاتصالات البصرية، يربط البصرية هذه المرحلة الأولى، ولكن أيضا القدرة على تحقيق المقبل رقاقة تكنولوجيا الربط الضوئية وأجهزة الكمبيوتر البصرية. عملية السيليكون الضوئيات منصة التكنولوجيا هي تكوين السلسلة الرئيسية. لفترة طويلة، افتقارنا إلى الكمال منصة تقنية الضوئيات السيليكون، إلى حد كبير قيدت تطور التكنولوجيا الضوئيات السيليكون. بحث الالكترونيات الدقيقة السيليكون الضوئيات التكنولوجيا والتنمية تعتمد على تقنية CMOS ثمانية بوصة من خط الداخلي عام 2015، وقد وضعت مجموعة من الضوئيات السيليكون معالجة وحدات تتألف من وضع واحد الدليل الموجي التحقق بنجاح، فرع Y الجهاز عبر البصرية، يقترن صريف، المخفف قابل للتعديل، كشف الجرمانيوم والأجهزة الضوئية جهري سلسلة السيليكون. لقد تم الافراج عن PDK التي تعتمد على منصة لخدمة العملاء الشريط وزارة الأشغال العامة المحلية في التقدم. الالكترونيات الدقيقة الضوئيات السيليكون منصة هي الدولة الأولى في تقديم ورقة تدفق كاملة من منصة السيليكون الضوئيات التكنولوجيا من شأنها أن تغير لدينا السيليكون الأساسية رقاقة الضوئية الوضع tapeout في بلد أجنبي.

MEMS الأجهزة بسبب تنوعها، فريدة من نوعها ونوع واحد كل جهاز مع هيكل دعم العملية الخاصة. ولذلك، في عملية التنمية وإنتاج أجهزة MEMS، وغالبا ما نحن بحاجة إلى تطوير الأجهزة والمعدات الخاصة أو تطوير العملية الخاصة، مما أدى إلى عملية الإنتاج من التنمية والاستقرار من دورة طويلة، وارتفاع تكلفة الإنتاج وR & D، إنتاج المنتج تقلبات العائد وغيرها من القضايا. ، وبالتعاون مع الدقيقة والتكنولوجيا المحدودة، نظرا جيانغسو التمان من هذا الوضع، لوضع معيار تقنيات منصة التكنولوجيا لتلبية مجموعة متنوعة من تصنيع جهاز MEMS. تستخدم التكنولوجيا ركيزة الأخدود قصيرة، ورقة الركيزة والهيكل ورقة مسار العملية ترقق هيكل ورقة الظهر المستعبدين لإنتاج هيكل ناتئ، فيا السيليكون التنغستن ربط المكونات وMEMS تكنولوجيا ASIC الدائرة يونيكوم، السندات المحكم في لتحقيق حزمة مستوى رقاقة الترابط. وفيما يتعلق ارتفاع درجة الحرارة شعاع البولي سيليكون ناتئ ونمو طبقة أكسيد السيليكون لمسار العملية الافراج عن الأضاحي، فإن هذا الأسلوب لا يوجد لديه الإجهاد المتبقية في ناتئ، وحسن انتظام العملية. توفر عملية لهياكل منصة الاختبار PCM رصد الخطوات الحاسمة في عملية التصميم وتصميم قواعد موحدة لكل خطوة من خطوات العملية. هذه التكنولوجيا منصة تتيح نفس المجموعة من تصميم تخطيط وافر من أنواع مختلفة على التوالي ممس الأجهزة، وفي الوقت نفسه الانتهاء من تصنيع ورقة التدفق، وراحة العملاء الذين يستخدمون طريقة وزارة الأشغال العامة قد وضعت منتجات جديدة منخفضة التكلفة.

السيليكون جهاز الضوئية منصة تلفيق التخطيطي

الدليل الموجي

صريف

Y الخائن

قه كاشف

MEMS منصة تكنولوجيا التخطيطي

التسارع Triaxial

اثنان محور التسارع

فراغ مقياس بيراني

بالسعة استشعار الضغط المطلق